一、关于氩气纯化的方法：
第一种
    直接脱氧法。就是使用活性金属、催化剂与氩气中的氧气进行反应，消化掉氩气中的氧气，从而达到脱氧的目的，经过分子筛吸收掉氩气中的水份，使氩气的含水量小于1ppm。
第二种
    是采用吸气剂。在一定温度下，吸气剂可吸收氮、氢、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等气体经吸收处理后，氩气的纯度可达到6个九，这种工艺生产出来的高纯气体适用于各类仪器仪表适用要求。
    第一种方法设备投资小，第二种方法设备纯化纯度高但投资相对较大。
二、技术参数：
  1、处理气量：    5~3000 Nm3/h(可根据用户需要订做非标设备)
  2、原料气要求： 液氩或者较好的管道氩均可使用
  3、工作压力0.2-1.6MPa可调
  4、(氩气净化器)净化效能：纯化后符合并高于GB/T4842-2006的99.9996%要求 
气体 纯度(%) H2(ppm) O2(ppm) N(ppm) CO2(ppm) CH4(ppm) 露点 (H2O)
精氩 99.9996 ≤0.5 ≤0.5 ≤0.5 ≤0.5 ≤0.5 ≤1.5
  
三、设备特点：
   1、净化剂特点有吸附深度好，吸收杂质气体量大的特点，纯度可达99.99999%以上;
   2、净化器采用特殊结构和装料方法，流速设计合理，气流分布均匀;
   3、全BA级内外精拉管管路。采用进口卡套式球阀。杜绝了气体流经管路的再次污染。
    4、双式结构,开机后一组工作，另一组再生、备用,而且RZ-YA-C系列半自动纯化装置工作和再生都自动进行,故能够连续供气,一台能顶单式的两台使用。
   5、本公司生产的RZ-YA-D系列全自动氩气纯化装置功能说明：
      A、具有全自动功能,使用操作简单，开、停机只需按两个按钮，不需扭动任何阀门，这些工作都由PLC程序自动进行；这还克服了手动和半自动机型因人为操作失误引起的气体不纯，因此纯气质量也更加稳定。
      B、控制文本显示器采用合资品牌-昆仑通泰7吋液晶触摸屏，实时模拟显示工作流程状态和各种参数显示，并随时可以实现各参数的修正，极大的方便工作人员的操作。 
      C、可根据用户需要配备在线分析仪，时时在线监测。
四、应用领域：
    该系列氩气纯化装置用于高纯气体充装站、焊接、不锈钢制造、冶炼，还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气。

关键词
   氩气净化机，氩气净化装置，氩气净化设备，氩气净化器，多晶硅氩气纯化设备，单晶硅氩气净化装置，氩气纯化设备，氩气纯化器，氩气纯化装置。